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        Mercury2000P系列無掩膜光刻機  

         

         

         

              支持:

         

            》第二代無掩膜光刻技術

            》全局對準功能

            》手動對準功能

            》預對準功能

            》對準補償設定

            》高精度圖形套刻匹配

            》全自動聚焦功能

            》灰度補償功能

            》支持GDSII,CIF,DXF多種格式處理

         

         

          產品介紹: 

         

          芯碩Mercury系列無掩膜直寫光刻設備基于先進的第二代光刻直寫技術,通過空間光調制器掃描技術實現直寫光刻。

            該系列產品主要應用于大規模集成電路150nm工藝節點以上掩膜版制作,亦可用于微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域的直寫光刻,在應用中省去了繁瑣的掩膜加工步驟,相比單束直寫具有效率高、技術先進、應用靈活等特點。該系列產品采用芯碩專利技術的大功率LD(波長405nm)光源,可達0.65um解析度和0.25um的套刻精度。

         

           指標 :

         

          

         

                SEM效果圖:

         

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